12月18日晚間，中微公司(688012)發(fā)布關于籌劃發(fā)行股份購買資產并募集配套資金事項的停牌公告。

據(jù)披露，中微公司正在籌劃通過發(fā)行股份的方式購買杭州眾硅電子科技有限公司（簡稱“杭州眾硅”“標的公司”）控股權并募集配套資金。

該交易尚處于籌劃階段，截至公告披露日，本次交易的審計、評估工作尚未完成，標的資產估值及定價尚未確定。根據(jù)相關規(guī)定，經初步測算，本次交易不構成重大資產重組，亦不構成關聯(lián)交易；該交易不會導致公司實際控制人發(fā)生變更，不構成重組上市。

同時，經公司申請，公司股票自12月19日（星期五）開市起開始停牌，預計停牌時間不超過10個交易日。

公告顯示，杭州眾硅成立于2018年5月，公司主營業(yè)務為高端化學機械平坦化拋光（CMP）設備的研發(fā)、生產及銷售，并為客戶提供CMP設備的整體解決方案；主要產品為12英寸的CMP設備。

談及交易目的，中微公司表示，本次交易，是公司構建全球一流半導體設備平臺、強化核心技術組合完整性的戰(zhàn)略舉措之一，旨在為客戶提供更具競爭力的成套工藝解決方案。中微公司的主要產品是等離子體刻蝕和薄膜沉積設備，屬于真空下的干法設備。杭州眾硅所開發(fā)的是濕法設備里面重要的化學機械拋光設備（CMP）。刻蝕、薄膜和濕法設備，是除光刻機以外最為核心的半導體工藝加工設備。通過本次的并購，雙方將形成顯著的戰(zhàn)略協(xié)同，同時標志著中微公司向“集團化”和“平臺化”邁出關鍵的一步，符合公司通過內生發(fā)展與外延并購相結合、持續(xù)拓展集成電路覆蓋領域的戰(zhàn)略規(guī)劃。

資料顯示，作為國內高端半導體設備制造的領軍者，中微公司等離子體刻蝕設備已應用于國際一線客戶從65納米到14納米、7納米、5納米及其他先進集成電路加工制造生產線，以及先進存儲、先進封裝生產線。其中，CCP電容性高能等離子體刻蝕機和ICP電感性低能等離子體刻蝕機可覆蓋國內95%以上的刻蝕應用需求。

今年前三季度（1—9月），公司實現(xiàn)營業(yè)收入80.63億元，同比增長約46.40%。其中刻蝕設備收入61.01億元，同比增長約38.26%；LPCVD和ALD等薄膜設備收入4.03億元，同比增長約1332.69%；同期實現(xiàn)歸屬于上市公司股東的凈利潤為12.11億元，同比增長約32.66%。